Choice of metadata Статьи
Page 1, Results: 1
Report on unfulfilled requests: 0
1.
Подробнее
24.74
В 58
Влияние условий вытяжки и газовой среды при графитации на кристаллическую структуру и свойства высокомодульных углеродных волокон на основе полиакрилонитрила [Текст] / Д. Б. Вербец [и др.] // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(11). - С. 10-18
ББК 24.74
Рубрики: Неорганические высокомолекулярные соединения
Кл.слова (ненормированные):
высокомодульное углеродное волокно -- Рамановская спектроскопия -- рентгеноструктурный анализ -- микроструктура -- галогенуглеводороды -- вытяжкы -- газовая среда -- графитация -- кристаллическая структура -- химия
Аннотация: Исследовалось влияние условий вытяжки и газовой среды при графитации на кристаллическую структуру и свойства высокомодульных углеродных волокон (УВ) на основе полиакрилонитрила. Показано, что увеличение степени вытяжки до 8 – 10,5% исходного высокопрочного УВ при температуре 3000 °С приводит к уменьшению прочности УВ и росту модуля упругости. Использование галогенсодержащей среды при температуре графитации 2500 °С, не привело к снижению прочности полученных УВ, но привело к значительному увеличению модуля упругости, до 59%. Изучение кристаллической структуры полученных УВ проводили методами рентгеноструктурного анализа и Рамановской спектроскопии. Показано, что с увеличением степени вытяжки до 8 % наблюдается уменьшение межслоевого расстояния d002, рост высоты Lc и диаметра Lа кристаллитов. Методом рамановской спектроскопии было установлено, что параметр ID/IG (соотношению интегральных интенсивностей спектральных полос D и G) при этом уменьшается, что также соответствует увеличению степени совершенства кристаллической структуры УВ. На дифрактограмме видно влияние галогенсодержащей среды при температуре графитации 2500 °С на кристаллическую структуру УВ: наблюдается снижение полуширины пика 002, хотя межслоевое расстояние при этом не уменьшается, а на рамановком спектре наблюдается снижение отношения спектральных интенсивностей ID/IG, что подтверждает более высокую степень совершенства кристаллической структуры для УВ, прошедших графитацию в галогенсодержащей среде.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Вербец, Д.Б.
Самойлов, В.М.
Бучнев, Л.М.
Находнова, А.В.
Бубненков, И.А.
Степарева, Н.Н.
В 58
Влияние условий вытяжки и газовой среды при графитации на кристаллическую структуру и свойства высокомодульных углеродных волокон на основе полиакрилонитрила [Текст] / Д. Б. Вербец [и др.] // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(11). - С. 10-18
Рубрики: Неорганические высокомолекулярные соединения
Кл.слова (ненормированные):
высокомодульное углеродное волокно -- Рамановская спектроскопия -- рентгеноструктурный анализ -- микроструктура -- галогенуглеводороды -- вытяжкы -- газовая среда -- графитация -- кристаллическая структура -- химия
Аннотация: Исследовалось влияние условий вытяжки и газовой среды при графитации на кристаллическую структуру и свойства высокомодульных углеродных волокон (УВ) на основе полиакрилонитрила. Показано, что увеличение степени вытяжки до 8 – 10,5% исходного высокопрочного УВ при температуре 3000 °С приводит к уменьшению прочности УВ и росту модуля упругости. Использование галогенсодержащей среды при температуре графитации 2500 °С, не привело к снижению прочности полученных УВ, но привело к значительному увеличению модуля упругости, до 59%. Изучение кристаллической структуры полученных УВ проводили методами рентгеноструктурного анализа и Рамановской спектроскопии. Показано, что с увеличением степени вытяжки до 8 % наблюдается уменьшение межслоевого расстояния d002, рост высоты Lc и диаметра Lа кристаллитов. Методом рамановской спектроскопии было установлено, что параметр ID/IG (соотношению интегральных интенсивностей спектральных полос D и G) при этом уменьшается, что также соответствует увеличению степени совершенства кристаллической структуры УВ. На дифрактограмме видно влияние галогенсодержащей среды при температуре графитации 2500 °С на кристаллическую структуру УВ: наблюдается снижение полуширины пика 002, хотя межслоевое расстояние при этом не уменьшается, а на рамановком спектре наблюдается снижение отношения спектральных интенсивностей ID/IG, что подтверждает более высокую степень совершенства кристаллической структуры для УВ, прошедших графитацию в галогенсодержащей среде.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Вербец, Д.Б.
Самойлов, В.М.
Бучнев, Л.М.
Находнова, А.В.
Бубненков, И.А.
Степарева, Н.Н.
Page 1, Results: 1