Choice of metadata Статьи
Page 1, Results: 4
Report on unfulfilled requests: 0
1.
Подробнее
32
В 58
Влияние технологических параметров получения углеродных пленочных наноструктур [Текст] / И. А. Цыганов [и др.] // Вестник Казахского национального университета имени Аль-Фараби. - Алматы, 2018. - №1(64). - С. 25-31. - ( Серия физическая)
ББК 32
Рубрики: Радиоэлектроника
Кл.слова (ненормированные):
углеродные пленочные наноструктуры -- наноалмазы -- магнетронное распыление -- рамановская спектроскопия -- сканирующая электронная микроскопия -- технологические параметры -- полупроводниковые подложки -- смесь газов -- температурные закономерности -- наноматериалы
Аннотация: Рассмотрено влияние технологических параметров пленочных углеродных наноструктур, полученных на металлических и полупроводниковых подложках методом магнетронного ионноплазменного распыления. Приведены результаты по влиянию смеси газов Ar+H2 и Ar+CH4 на структуру пленок, которые были исследованы с использованием сканирующей электронной микроскопии и спектроскопии комбинационного рассеяния. По данным спектров КР, представленным в статье, описаны особенности структур, полученных образцов, которые сильно отличаются в зависимости от использованной смеси газов. Из результатов микрофотографий СЭМ оценено распределение и средние размеры обнаруженных наноразмерных углеродных фрагментов. Проанализированные данные отражают свойства углеродных пленочных наноструктур в зависимости от технологических параметров и условий подготовки мишеней. Выявлены температурные закономерности и зависимость используемой смеси рабочего газа.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Цыганов, И.А.
Гусейнов, Н.Р.
Кожантаева, А.С.
Узакбаева, Н.Н.
Шадиярбекова, А.Н.
Ерболаев, А.А.
Исаев, А.С.
Жумагулов, М.М.
Толеуханова, А.К.
В 58
Влияние технологических параметров получения углеродных пленочных наноструктур [Текст] / И. А. Цыганов [и др.] // Вестник Казахского национального университета имени Аль-Фараби. - Алматы, 2018. - №1(64). - С. 25-31. - ( Серия физическая)
Рубрики: Радиоэлектроника
Кл.слова (ненормированные):
углеродные пленочные наноструктуры -- наноалмазы -- магнетронное распыление -- рамановская спектроскопия -- сканирующая электронная микроскопия -- технологические параметры -- полупроводниковые подложки -- смесь газов -- температурные закономерности -- наноматериалы
Аннотация: Рассмотрено влияние технологических параметров пленочных углеродных наноструктур, полученных на металлических и полупроводниковых подложках методом магнетронного ионноплазменного распыления. Приведены результаты по влиянию смеси газов Ar+H2 и Ar+CH4 на структуру пленок, которые были исследованы с использованием сканирующей электронной микроскопии и спектроскопии комбинационного рассеяния. По данным спектров КР, представленным в статье, описаны особенности структур, полученных образцов, которые сильно отличаются в зависимости от использованной смеси газов. Из результатов микрофотографий СЭМ оценено распределение и средние размеры обнаруженных наноразмерных углеродных фрагментов. Проанализированные данные отражают свойства углеродных пленочных наноструктур в зависимости от технологических параметров и условий подготовки мишеней. Выявлены температурные закономерности и зависимость используемой смеси рабочего газа.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Цыганов, И.А.
Гусейнов, Н.Р.
Кожантаева, А.С.
Узакбаева, Н.Н.
Шадиярбекова, А.Н.
Ерболаев, А.А.
Исаев, А.С.
Жумагулов, М.М.
Толеуханова, А.К.
2.
Подробнее
24.5
С 38
Синтез композитов на основе модифицированных кремнием детонационных наноалмазов [Текст] / В. Т. Сенють [и др.] // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(11). - С. 4-9
ББК 24.5
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
наноалмазы -- сверхтвердые материалы -- карбид кремния -- модифицирование -- вакуумная термообработка -- высокие давления и температуры -- синтез композитов -- химия
Аннотация: Разработаны научные подходы формирования композиционных материалов типа «наноалмаз–наноструктурный SiC». Показано, что в результате вакуумной термообработки происходит графитизация наноалмазов и формирование на их поверхности наноструктурного графитоподобного покрытия. При этом уменьшение массы порошка наноалмазов после вакуумного отжига достигает 20 – 30 мас. % за счет удаления кислородсодержащих поверхностных функциональных групп, физически и химически адсорбированной воды. В соответствии с разработанной технологией химико-термическое модифицирование наноалмазов кремнием проводили путем их отжига в восстановительной атмосфере в диапазоне температур 873–1273 К в присутствии галогенидов кремния. На основе модифицированных углеродом и кремнием наноалмазов в условиях вакуумного отжига получен композиционный наноструктурный порошок наноалмаз – SiC с размером частиц от 0,1 до 5 мкм. В результате термобарического спекания модифицированного порошка в диапазоне давлений 1,0 – 2,5 ГПа на его основе формируется компактный алмазный композиционный материал, состоящий из поликристаллических алмазных зерен размером 0,2 – 0,5 мкм. При этом размер алмазных субзерен составляет 50 – 100 нм, а между крупными поликристаллическими зернами отмечается присутствие наноалмазов размером 10 – 20 нм. В результате размола синтезированных компактов получен поликристаллический алмазный микропорошок с размером частиц до 50 мкм, характеризуемый субмикро- и нанокристаллической структурой. Вследствие иерархической структуры у спеченных частиц (частица–зерно–субзерно–наноалмазный кристаллит), порошки на основе полученного материала перспективны в технологиях финишной обработки хрупких неметаллических материалов.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Сенють, В.Т.
Витязь, П.А.
Валькович, И.В.
Парницкий, А.М.
Ржецкий, В.А.
С 38
Синтез композитов на основе модифицированных кремнием детонационных наноалмазов [Текст] / В. Т. Сенють [и др.] // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(11). - С. 4-9
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
наноалмазы -- сверхтвердые материалы -- карбид кремния -- модифицирование -- вакуумная термообработка -- высокие давления и температуры -- синтез композитов -- химия
Аннотация: Разработаны научные подходы формирования композиционных материалов типа «наноалмаз–наноструктурный SiC». Показано, что в результате вакуумной термообработки происходит графитизация наноалмазов и формирование на их поверхности наноструктурного графитоподобного покрытия. При этом уменьшение массы порошка наноалмазов после вакуумного отжига достигает 20 – 30 мас. % за счет удаления кислородсодержащих поверхностных функциональных групп, физически и химически адсорбированной воды. В соответствии с разработанной технологией химико-термическое модифицирование наноалмазов кремнием проводили путем их отжига в восстановительной атмосфере в диапазоне температур 873–1273 К в присутствии галогенидов кремния. На основе модифицированных углеродом и кремнием наноалмазов в условиях вакуумного отжига получен композиционный наноструктурный порошок наноалмаз – SiC с размером частиц от 0,1 до 5 мкм. В результате термобарического спекания модифицированного порошка в диапазоне давлений 1,0 – 2,5 ГПа на его основе формируется компактный алмазный композиционный материал, состоящий из поликристаллических алмазных зерен размером 0,2 – 0,5 мкм. При этом размер алмазных субзерен составляет 50 – 100 нм, а между крупными поликристаллическими зернами отмечается присутствие наноалмазов размером 10 – 20 нм. В результате размола синтезированных компактов получен поликристаллический алмазный микропорошок с размером частиц до 50 мкм, характеризуемый субмикро- и нанокристаллической структурой. Вследствие иерархической структуры у спеченных частиц (частица–зерно–субзерно–наноалмазный кристаллит), порошки на основе полученного материала перспективны в технологиях финишной обработки хрупких неметаллических материалов.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Сенють, В.Т.
Витязь, П.А.
Валькович, И.В.
Парницкий, А.М.
Ржецкий, В.А.
3.
Подробнее
24.54
Д 46
Динамика графитизации поверхности детонационных нано- и микроалмазов [Текст] / Н. В. Шевченко [и др.] // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(11). - С. 25-30
ББК 24.54
Рубрики: Химическая кинетика. Горение, детонация и взрывы. Катализ
Кл.слова (ненормированные):
детонационный синтез -- детонационные наноалмазы -- микроалмазы -- фазовый состав углерода -- графитизация -- онионы -- рентгенофазовый анализ -- рентгенофазовый анализ -- комбинационное рассеяние света -- химия
Аннотация: Исследованы характеристические особенности, свойства и фазовый состав поверхности нано- и микрокристаллов алмаза детонационного синтеза, подвергнутых графитизации. Закономерности протекания данного процесса и накопление продуктов графитизации были изучены путем применения комбинационного рассеяния света (КРС), электронной микроскопией и рентгенофазного анализа образцов микропорошков. В качестве объектов исследований были использованы образцы химически очищенных детонационных нано- и микроалмазов, полученных методом детонационного синтеза. Использованные образцы углеродных частиц исследованы в диапазоне температур 20 – 1500 °С, в атмосфере инертного газа, при различных скоростях нагревания объекта. Графитизация наноалмазов характеризуется строгими этапными превращениями, связанными с ростом КРС интенсивности пиков КРС (1350 и 1610 см-1), характеризующими графитизацию, связанную с появлением и накоплением sp2-типа углеродных связей. Регистрируемые проявления КРС связанны с появлением и накоплением кристаллических и аморфных продуктов наноалмазной графитизации. Исследованные конечные продукты изучаемого процесса имели максимум КРС при 1575 см-1, что прямо указывает на появление онионоподобных форм углерода на поверхности исследуемых наноалмазных частиц. Установлены отличительные особенности динамики графитизации поверхности углеродных частиц, имеющих различную структурную организацию. Наноалмазные частицы в большей степени, чем микроалмазные, чувствительны к данному процессу, а происходящие с ними изменения носят более глубокий характер. Графитизация нано- и микроалмазных частиц сопровождается переходом углерода поверхности из sp3 в sp2 фазу, а также возникновением различных форм аморфной фазы. Данный процесс характеризуется появлениями и накоплением онионоподобных продуктов (onions) графитизации. Особенности графитизации микроалмазов связаны с возникновением онионоподобных протяженных структур значительно больших размеров (до ста нм) и отличающихся микроструктурной организацией, по сравнению с онионами, возникающими из детонационных наноалмазов.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Шевченко, Н.В.
Горбачев, В.А.
Чобанян, В.А.
Сигалаев, С.К.
Ризаханов, Р.Н.
Высотина, Е.А.
Бланк, В.Д.
Голубев, А.А.
Д 46
Динамика графитизации поверхности детонационных нано- и микроалмазов [Текст] / Н. В. Шевченко [и др.] // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(11). - С. 25-30
Рубрики: Химическая кинетика. Горение, детонация и взрывы. Катализ
Кл.слова (ненормированные):
детонационный синтез -- детонационные наноалмазы -- микроалмазы -- фазовый состав углерода -- графитизация -- онионы -- рентгенофазовый анализ -- рентгенофазовый анализ -- комбинационное рассеяние света -- химия
Аннотация: Исследованы характеристические особенности, свойства и фазовый состав поверхности нано- и микрокристаллов алмаза детонационного синтеза, подвергнутых графитизации. Закономерности протекания данного процесса и накопление продуктов графитизации были изучены путем применения комбинационного рассеяния света (КРС), электронной микроскопией и рентгенофазного анализа образцов микропорошков. В качестве объектов исследований были использованы образцы химически очищенных детонационных нано- и микроалмазов, полученных методом детонационного синтеза. Использованные образцы углеродных частиц исследованы в диапазоне температур 20 – 1500 °С, в атмосфере инертного газа, при различных скоростях нагревания объекта. Графитизация наноалмазов характеризуется строгими этапными превращениями, связанными с ростом КРС интенсивности пиков КРС (1350 и 1610 см-1), характеризующими графитизацию, связанную с появлением и накоплением sp2-типа углеродных связей. Регистрируемые проявления КРС связанны с появлением и накоплением кристаллических и аморфных продуктов наноалмазной графитизации. Исследованные конечные продукты изучаемого процесса имели максимум КРС при 1575 см-1, что прямо указывает на появление онионоподобных форм углерода на поверхности исследуемых наноалмазных частиц. Установлены отличительные особенности динамики графитизации поверхности углеродных частиц, имеющих различную структурную организацию. Наноалмазные частицы в большей степени, чем микроалмазные, чувствительны к данному процессу, а происходящие с ними изменения носят более глубокий характер. Графитизация нано- и микроалмазных частиц сопровождается переходом углерода поверхности из sp3 в sp2 фазу, а также возникновением различных форм аморфной фазы. Данный процесс характеризуется появлениями и накоплением онионоподобных продуктов (onions) графитизации. Особенности графитизации микроалмазов связаны с возникновением онионоподобных протяженных структур значительно больших размеров (до ста нм) и отличающихся микроструктурной организацией, по сравнению с онионами, возникающими из детонационных наноалмазов.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Шевченко, Н.В.
Горбачев, В.А.
Чобанян, В.А.
Сигалаев, С.К.
Ризаханов, Р.Н.
Высотина, Е.А.
Бланк, В.Д.
Голубев, А.А.
4.
Подробнее
24
К 32
Квантово-химическое моделирование адсорбции тетрахлорметана и продуктов его гидродехлорирования на поверхности кластеров палладия [Текст] / П. А. Калмыков [и др.] // Известия высших учебных заведений. Серия «Химия и химическая технология». - 2019. - Т.62(4). - С. 95-102
ББК 24
Рубрики: Химические науки
Кл.слова (ненормированные):
гидродехлорирование -- тетрахлорметан -- трихлорметан -- дихлорметан -- катализаторы гидродегалогенирования -- палладийсодержащие наноалмазы -- квантово-химические расчеты -- химия
Аннотация: Проведено жидкофазное гидродехлорирование тетрахлорметана в присутствии палладийсодержащих катализаторов на основе наноалмазов (1 мас. % Pd/НА) и активированного угля (1 мас. % Pd/С) в мягких условиях (растворитель – этанол, Т = 318 K, Рн2 = 0,1 МПа). Катализатор 1 мас. % Pd/НА оказался более активным (TOF = 3,5 мин–1) по сравнению с катализатором на основе активированного угля (TOF = 2,5 мин–1). Согласно данным газо-жидкостной хроматографии, процесс гидродехлорирования протекает ступенчато с образованием трихлорметана и дихлорметана, однако продукты гидродехлорирования не сразу поступают в реакционную массу, а остаются на поверхности катализатора и подвергаются дальнейшим превращениям. Степень конверсии тетрахлорметана возрастает нелинейно и достигает порядка 70-80% в зависимости от природы катализатора после 5 ч реакции. Квантово-химическим методом (DFT/PBE/LANL2DZ) проведено моделирование адсорбции молекул тетрахлорметана и продуктов реакции (моно-, ди-, трихлорметанов и метана) на поверхности активных центров катализатора – кластера Pd13. В комплексах Pd13+субстрат геометрия кластера Pd13 изменяется незначительно: увеличились длины связей Pd–Pd, участвующие во взаимодействии с атомами хлора субстратов. Более существенно меняется геометрия субстратов: связи С–Cl(Н), участвующие во взаимодействии с атомами палладия, удлиняются от 0,010 до 0,136 Å. На основании результатов квантово-химических расчетов можно предположить, что на кластере Pd13 возможно образование комплексов Pd13+субстрат с различной энергией адсорбции. При этом, чем больше атомов хлора в молекулах хлорметанов образуют связь с атомами кластера, тем выше значение энергии адсорбции.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Калмыков, П.А.
Лысенок, А.А.
Магдалинова, Н.А.
Клюев, М.В.
К 32
Квантово-химическое моделирование адсорбции тетрахлорметана и продуктов его гидродехлорирования на поверхности кластеров палладия [Текст] / П. А. Калмыков [и др.] // Известия высших учебных заведений. Серия «Химия и химическая технология». - 2019. - Т.62(4). - С. 95-102
Рубрики: Химические науки
Кл.слова (ненормированные):
гидродехлорирование -- тетрахлорметан -- трихлорметан -- дихлорметан -- катализаторы гидродегалогенирования -- палладийсодержащие наноалмазы -- квантово-химические расчеты -- химия
Аннотация: Проведено жидкофазное гидродехлорирование тетрахлорметана в присутствии палладийсодержащих катализаторов на основе наноалмазов (1 мас. % Pd/НА) и активированного угля (1 мас. % Pd/С) в мягких условиях (растворитель – этанол, Т = 318 K, Рн2 = 0,1 МПа). Катализатор 1 мас. % Pd/НА оказался более активным (TOF = 3,5 мин–1) по сравнению с катализатором на основе активированного угля (TOF = 2,5 мин–1). Согласно данным газо-жидкостной хроматографии, процесс гидродехлорирования протекает ступенчато с образованием трихлорметана и дихлорметана, однако продукты гидродехлорирования не сразу поступают в реакционную массу, а остаются на поверхности катализатора и подвергаются дальнейшим превращениям. Степень конверсии тетрахлорметана возрастает нелинейно и достигает порядка 70-80% в зависимости от природы катализатора после 5 ч реакции. Квантово-химическим методом (DFT/PBE/LANL2DZ) проведено моделирование адсорбции молекул тетрахлорметана и продуктов реакции (моно-, ди-, трихлорметанов и метана) на поверхности активных центров катализатора – кластера Pd13. В комплексах Pd13+субстрат геометрия кластера Pd13 изменяется незначительно: увеличились длины связей Pd–Pd, участвующие во взаимодействии с атомами хлора субстратов. Более существенно меняется геометрия субстратов: связи С–Cl(Н), участвующие во взаимодействии с атомами палладия, удлиняются от 0,010 до 0,136 Å. На основании результатов квантово-химических расчетов можно предположить, что на кластере Pd13 возможно образование комплексов Pd13+субстрат с различной энергией адсорбции. При этом, чем больше атомов хлора в молекулах хлорметанов образуют связь с атомами кластера, тем выше значение энергии адсорбции.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Калмыков, П.А.
Лысенок, А.А.
Магдалинова, Н.А.
Клюев, М.В.
Page 1, Results: 4