Choice of metadata Статьи
Page 1, Results: 9
Report on unfulfilled requests: 0
1.
Подробнее
24.1
E43
Electrolysis of copper form stripping solutions for etching printed circuit boards / E. S. Kondratieva [et al.] // Известия Национальной академии наук Республики Казахстан=News of National academy of sciences of the Republic of Kazakhstan. - 2019. - №5. - Р. 6-14. - (Серия химии и технологии=Series of chemistry and technology sciences)
ББК 24.1
Рубрики: Неорганическая хиия
Кл.слова (ненормированные):
печатные платы -- травление -- медно-аммиачные растворы -- медно-хлорные растворы -- регенерация -- экстракция -- реэкстрагирующие растворы -- электролиз -- анод -- катодная медь -- плотность тока -- выход по току
Аннотация: Рассмотрена технология регенерации растворов травления печатных плат, работающая по принципу жидкостная экстракция – электролиз. Определены технологические режимы, обеспечивающие электровыделение меди из сернокислых растворов, образующихся на стадии реэкстракции ионов (II) меди из органических экстрагентов. Эксперименты проводились в промышленных условиях. Показано, что электролиз меди протекает с высоким выходом по току при содержании в реэкстрагирующем растворе 1,0 моль/л серной кислоты, 0,8 - 1,0 моль/л ионов (II) меди, плотности тока 1,0 – 6,0 А/дм2 и перемешивании электролита. Проанализирован состав катодной меди, полученной при электролизе из модельного электролита и реэкстрагирующих растворов, после контакта с органическими экстрагентами. Установлено, что чистота катодной меди достигает 95 – 98 % по основному веществу. Вместе с тем было установлено, что в реэкстрагирующем растворе происходит постепенное накопление нерастворимого осадка, который примерно на 40% состоит из свинца. Это может быть связано с механическим разрушением активного слоя анода, состоящего из оксидов свинца (PbO2). Показана необходимость поиска материала для анодов, заменяющих аноды из двуокиси свинца, малоустойчивых в данной технологии.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Kondratieva, E.S.
Gubin, A.F.
Brodsky, V.A.
Kolesnikov, V.A.
Zhurinov, M.
Bayeshov, А.
Brodskiy, A.R.
E43
Electrolysis of copper form stripping solutions for etching printed circuit boards / E. S. Kondratieva [et al.] // Известия Национальной академии наук Республики Казахстан=News of National academy of sciences of the Republic of Kazakhstan. - 2019. - №5. - Р. 6-14. - (Серия химии и технологии=Series of chemistry and technology sciences)
Рубрики: Неорганическая хиия
Кл.слова (ненормированные):
печатные платы -- травление -- медно-аммиачные растворы -- медно-хлорные растворы -- регенерация -- экстракция -- реэкстрагирующие растворы -- электролиз -- анод -- катодная медь -- плотность тока -- выход по току
Аннотация: Рассмотрена технология регенерации растворов травления печатных плат, работающая по принципу жидкостная экстракция – электролиз. Определены технологические режимы, обеспечивающие электровыделение меди из сернокислых растворов, образующихся на стадии реэкстракции ионов (II) меди из органических экстрагентов. Эксперименты проводились в промышленных условиях. Показано, что электролиз меди протекает с высоким выходом по току при содержании в реэкстрагирующем растворе 1,0 моль/л серной кислоты, 0,8 - 1,0 моль/л ионов (II) меди, плотности тока 1,0 – 6,0 А/дм2 и перемешивании электролита. Проанализирован состав катодной меди, полученной при электролизе из модельного электролита и реэкстрагирующих растворов, после контакта с органическими экстрагентами. Установлено, что чистота катодной меди достигает 95 – 98 % по основному веществу. Вместе с тем было установлено, что в реэкстрагирующем растворе происходит постепенное накопление нерастворимого осадка, который примерно на 40% состоит из свинца. Это может быть связано с механическим разрушением активного слоя анода, состоящего из оксидов свинца (PbO2). Показана необходимость поиска материала для анодов, заменяющих аноды из двуокиси свинца, малоустойчивых в данной технологии.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Kondratieva, E.S.
Gubin, A.F.
Brodsky, V.A.
Kolesnikov, V.A.
Zhurinov, M.
Bayeshov, А.
Brodskiy, A.R.
2.
Подробнее
35.20
К 89
Кузьминых, М. М.
Катодное выделение водорода на дисилициде железа. І. Щелочная среда [Текст] / М. М. Кузьминых, В. В. Пантелеева, А. Б. Шеин // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62(1). - С. 38-45
ББК 35.20
Рубрики: Технология неорганических веществ в целом.Технология основных химических продуктов в целом
Кл.слова (ненормированные):
дисилицид железа FeSi2 -- катодное выделение водорода -- щелочной электролит, -- модификация -- химия -- щелочная среда -- дисилицид железа
Аннотация: Методами поляризационных измерений и электрохимической импедансной спектроскопии исследованы кинетические закономерности реакции выделения водорода на FeSi2-электроде в растворе 1,0 M NaOH. С помощью диагностических критериев для механизмов реакции выделения водорода, основанных на анализе зависимости параметров эквивалентной электрической схемы от перенапряжения, установлено, что реакция выделения водорода на дисилициде железа в щелочном электролите протекает по маршруту разряд – электрохимическая десорбция, где десорбция – скорость-определяющая стадия, обе стадии необратимы, коэффициенты переноса стадий равны (α1 = α2 = α), одновременно протекает реакция абсорбции водорода материалом электрода в диффузионном режиме (во всем исследованном интервале потенциалов), адсорбция атомарного водорода описывается уравнением изотермы Ленгмюра. Изучено влияние различных способов модификации поверхностного слоя FeSi2-электрода на кинетику и механизм катодного процесса. Обнаружено, что модификация поверхности дисилицида наводороживанием в 1,0 M NaOH при i = 30 мА/см2, анодным травлением в 0,5 M H2SO4 при E = 0,4 В (ст.в.э.), анодным травлением в 1,0 M NaOH при E = 0,1 В (ст.в.э.), химическим травлением в 5,0 M NaOH при 70 °С снижает перенапряжение выделения водорода; механизм катодного процесса в результате модификации не изменяется. Уменьшение перенапряжения выделения водорода на дисилициде железа обусловлено действием двух факторов: развитием поверхности и изменением состава поверхностного слоя электрода. Сделан вывод, что FeSi2 в щелочном электролите представляет перспективный электродный материал, проявляющий активность в реакции электролитического выделения водорода.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Пантелеева, В.В.
Шеин, А.Б.
К 89
Кузьминых, М. М.
Катодное выделение водорода на дисилициде железа. І. Щелочная среда [Текст] / М. М. Кузьминых, В. В. Пантелеева, А. Б. Шеин // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62(1). - С. 38-45
Рубрики: Технология неорганических веществ в целом.Технология основных химических продуктов в целом
Кл.слова (ненормированные):
дисилицид железа FeSi2 -- катодное выделение водорода -- щелочной электролит, -- модификация -- химия -- щелочная среда -- дисилицид железа
Аннотация: Методами поляризационных измерений и электрохимической импедансной спектроскопии исследованы кинетические закономерности реакции выделения водорода на FeSi2-электроде в растворе 1,0 M NaOH. С помощью диагностических критериев для механизмов реакции выделения водорода, основанных на анализе зависимости параметров эквивалентной электрической схемы от перенапряжения, установлено, что реакция выделения водорода на дисилициде железа в щелочном электролите протекает по маршруту разряд – электрохимическая десорбция, где десорбция – скорость-определяющая стадия, обе стадии необратимы, коэффициенты переноса стадий равны (α1 = α2 = α), одновременно протекает реакция абсорбции водорода материалом электрода в диффузионном режиме (во всем исследованном интервале потенциалов), адсорбция атомарного водорода описывается уравнением изотермы Ленгмюра. Изучено влияние различных способов модификации поверхностного слоя FeSi2-электрода на кинетику и механизм катодного процесса. Обнаружено, что модификация поверхности дисилицида наводороживанием в 1,0 M NaOH при i = 30 мА/см2, анодным травлением в 0,5 M H2SO4 при E = 0,4 В (ст.в.э.), анодным травлением в 1,0 M NaOH при E = 0,1 В (ст.в.э.), химическим травлением в 5,0 M NaOH при 70 °С снижает перенапряжение выделения водорода; механизм катодного процесса в результате модификации не изменяется. Уменьшение перенапряжения выделения водорода на дисилициде железа обусловлено действием двух факторов: развитием поверхности и изменением состава поверхностного слоя электрода. Сделан вывод, что FeSi2 в щелочном электролите представляет перспективный электродный материал, проявляющий активность в реакции электролитического выделения водорода.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Пантелеева, В.В.
Шеин, А.Б.
3.
Подробнее
24.5
Е 92
Ефремов, А.М.
Параметры плазмы, концентрации активных частиц и кинетика травления в смеси C4F8+Ar [Текст] / А.М. Ефремов, Д.Б. Мурин, К.Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62(2). - С. 31-37
ББК 24.5
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация -- химия -- параметры плазмы -- активные частицы
Аннотация: В данной работе представлены результаты комбинированных (экспериментальных и модельных) исследований характеристик газовой фазы и кинетики травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar. Эксперименты проводились при постоянном общем давлении смеси (p = 6 мтор), вкладываемой мощности (W = 900 Вт) и мощности смещения (Wdc = 200 Вт), при этом соотношение компонентов C4F8/Ar варьировалось в диапазоне 0–75% Ar. Данные по внутренним параметрам плазмы, кинетике плазмохимических процессов и стационарным концентрациям частиц в газовой фазе получали при совместном использовании диагностики плазмы зондами Лангмюра и 0-мерного моделирования плазмы. Механизмы травления идентифицировали через анализ корреляций между измеренными скоростями травления и расчетными значениями плотностей потоков активных частиц (атомов F, полимеробразующих радикалов CFx и положительных ионов). Было найдено, что в исследованном диапазоне условий процессы травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar 1) протекают в стационарной области; 2) имеют характерные черты ионно-стимулированной химической реакции в режиме травления, лимитируемом потоком нейтральных частиц; 3) не свободны от влияния толщины фторуглеродной полимерной пленки. Было показано, что влияние условий проведения процесса травления на величину эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора с Si и SiO2 адекватно характеризуется отношениями плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока атомов фтора и плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока энергии ионов.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон, К.Х.
Е 92
Ефремов, А.М.
Параметры плазмы, концентрации активных частиц и кинетика травления в смеси C4F8+Ar [Текст] / А.М. Ефремов, Д.Б. Мурин, К.Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62(2). - С. 31-37
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация -- химия -- параметры плазмы -- активные частицы
Аннотация: В данной работе представлены результаты комбинированных (экспериментальных и модельных) исследований характеристик газовой фазы и кинетики травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar. Эксперименты проводились при постоянном общем давлении смеси (p = 6 мтор), вкладываемой мощности (W = 900 Вт) и мощности смещения (Wdc = 200 Вт), при этом соотношение компонентов C4F8/Ar варьировалось в диапазоне 0–75% Ar. Данные по внутренним параметрам плазмы, кинетике плазмохимических процессов и стационарным концентрациям частиц в газовой фазе получали при совместном использовании диагностики плазмы зондами Лангмюра и 0-мерного моделирования плазмы. Механизмы травления идентифицировали через анализ корреляций между измеренными скоростями травления и расчетными значениями плотностей потоков активных частиц (атомов F, полимеробразующих радикалов CFx и положительных ионов). Было найдено, что в исследованном диапазоне условий процессы травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar 1) протекают в стационарной области; 2) имеют характерные черты ионно-стимулированной химической реакции в режиме травления, лимитируемом потоком нейтральных частиц; 3) не свободны от влияния толщины фторуглеродной полимерной пленки. Было показано, что влияние условий проведения процесса травления на величину эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора с Si и SiO2 адекватно характеризуется отношениями плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока атомов фтора и плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока энергии ионов.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон, К.Х.
4.
Подробнее
35.11
К 89
Кузьминых, М.М.
Катодное выделение водорода на дисилициде железа. ІІ. Кислая среда [Текст] / М.М. Кузьминых, В.В. Пантелеева, А.Б. Шеин // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62(2). - С. 59-64
ББК 35.11
Рубрики: Основные процессы и аппараты химической технологии
Кл.слова (ненормированные):
дисилицид железа FeSi2 -- катодное выделение водорода -- сернокислый электролит -- модификация -- кислая среда
Аннотация: Исследованы кинетика и механизм реакции выделения водорода на FeSi2-электроде в растворе 0,5 M H2SO4. Установлено, что реакция выделения водорода на дисилициде железа в сернокислом электролите протекает по маршруту разряд – электрохимическая десорбция, где десорбция – скорость-определяющая стадия, обе стадии необратимы, коэффициенты переноса стадий равны, одновременно протекает реакция абсорбции водорода в кинетическом режиме (во всем изученном интервале потенциалов), адсорбция атомарного водорода описывается уравнением изотермы Ленгмюра. Отмечается влияние тонкой оксидной пленки, близкой по составу к SiO2, на кинетику выделения водорода на FeSi2 при невысоких катодных поляризациях. Изучено влияние различных способов модификации поверхностного слоя FeSi2-электрода на кинетику и механизм катодного процесса. Обнаружено, что модификация поверхности дисилицида железа наводороживанием в 0,5 M H2SO4 при i = 30 мА/см2, анодным травлением в 0,5 M H2SO4 при E = 0,4 В (ст.в.э.), анодным травлением в 1,0 M NaOH при E = 0,1 В (ст.в.э.), химическим травлением в 5,0 M NaOH при 70 °С снижает перенапряжение выделения водорода; механизм катодного процесса в результате модификации не изменяется. На основе измерений дифференциальной емкости выявлено, что уменьшение перенапряжения выделения водорода на дисилициде железа обусловлено действием двух факторов: развитием поверхности и изменением состава поверхностного слоя электрода. Сделан вывод, что FeSi2 в сернокислом электролите представляет перспективный электродный материал, проявляющий активность в реакции электрохимического выделения водорода.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Пантелеева, В.В.
Шеин, А.Б.
К 89
Кузьминых, М.М.
Катодное выделение водорода на дисилициде железа. ІІ. Кислая среда [Текст] / М.М. Кузьминых, В.В. Пантелеева, А.Б. Шеин // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62(2). - С. 59-64
Рубрики: Основные процессы и аппараты химической технологии
Кл.слова (ненормированные):
дисилицид железа FeSi2 -- катодное выделение водорода -- сернокислый электролит -- модификация -- кислая среда
Аннотация: Исследованы кинетика и механизм реакции выделения водорода на FeSi2-электроде в растворе 0,5 M H2SO4. Установлено, что реакция выделения водорода на дисилициде железа в сернокислом электролите протекает по маршруту разряд – электрохимическая десорбция, где десорбция – скорость-определяющая стадия, обе стадии необратимы, коэффициенты переноса стадий равны, одновременно протекает реакция абсорбции водорода в кинетическом режиме (во всем изученном интервале потенциалов), адсорбция атомарного водорода описывается уравнением изотермы Ленгмюра. Отмечается влияние тонкой оксидной пленки, близкой по составу к SiO2, на кинетику выделения водорода на FeSi2 при невысоких катодных поляризациях. Изучено влияние различных способов модификации поверхностного слоя FeSi2-электрода на кинетику и механизм катодного процесса. Обнаружено, что модификация поверхности дисилицида железа наводороживанием в 0,5 M H2SO4 при i = 30 мА/см2, анодным травлением в 0,5 M H2SO4 при E = 0,4 В (ст.в.э.), анодным травлением в 1,0 M NaOH при E = 0,1 В (ст.в.э.), химическим травлением в 5,0 M NaOH при 70 °С снижает перенапряжение выделения водорода; механизм катодного процесса в результате модификации не изменяется. На основе измерений дифференциальной емкости выявлено, что уменьшение перенапряжения выделения водорода на дисилициде железа обусловлено действием двух факторов: развитием поверхности и изменением состава поверхностного слоя электрода. Сделан вывод, что FeSi2 в сернокислом электролите представляет перспективный электродный материал, проявляющий активность в реакции электрохимического выделения водорода.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Пантелеева, В.В.
Шеин, А.Б.
5.
Подробнее
24.5
Е 92
Ефремов , А. М.
Параметры плазмы и кинетика активных частиц в смеси CF4+C4F8+Ar [Текст] / А. М. Ефремов , Д. Б. Мурин, К. Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(4-5). - С. 31-36
ББК 24.5
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
CF4 -- C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация
Аннотация: В данной работе обсуждаются взаимосвязи между начальным составом смеси CF4 + C4F8 + Ar, характеристиками газовой фазы и кинетикой гетерогенных процессов в условиях плазмы индукционного разряда пониженного давления. Целью работы являлось исследование зависимостей внутренних параметров плазмы (температура электронов, концентрация электронов, энергия ионной бомбардировки) и кинетики активных частиц от соотношения компонентов CF4/C4F8 в плазмообразующей смеси, а также выявление механизмов влияния указанных параметров на такие характеристики «сухого» травления, как скорость травления и селективность. Исследования проводились методами диагностики плазмы двойным зондом Лангмюра и моделирования плазмы в условиях планарного индукционного плазмохимического реактора. Эксперименты и расчеты проводились при постоянном давлении газа (10 мтор), вкладываемой мощности (800 Вт) и мощности смещения (150 Вт), при этом отношение CF4/C4F8 варьировалось изменением парциальных скоростей потока этих газов. Было найдено, что замещение CF4 на C4F8 в плазмообразующем газе CF4 + C4F8 + Ar приводит к снижению скорости генерации атомов фтора и плотности их потока на обрабатываемую поверхность из-за снижения концентрации в объеме плазмы. Предположено, что рост концентрации и плотности потока ненасыщенных радикалов CFx (x=1,2) в смесях с большим содержанием C4F8 при близких к постоянным значениях плотности потока энергии ионов (т.е. близкой к постоянной эффективности ионной бомбардировки) способствует снижению эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора за счет увеличения толщины фторуглеродной полимерной пленки на обрабатываемой поверхности.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон , К.Х.
Е 92
Ефремов , А. М.
Параметры плазмы и кинетика активных частиц в смеси CF4+C4F8+Ar [Текст] / А. М. Ефремов , Д. Б. Мурин, К. Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(4-5). - С. 31-36
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
CF4 -- C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация
Аннотация: В данной работе обсуждаются взаимосвязи между начальным составом смеси CF4 + C4F8 + Ar, характеристиками газовой фазы и кинетикой гетерогенных процессов в условиях плазмы индукционного разряда пониженного давления. Целью работы являлось исследование зависимостей внутренних параметров плазмы (температура электронов, концентрация электронов, энергия ионной бомбардировки) и кинетики активных частиц от соотношения компонентов CF4/C4F8 в плазмообразующей смеси, а также выявление механизмов влияния указанных параметров на такие характеристики «сухого» травления, как скорость травления и селективность. Исследования проводились методами диагностики плазмы двойным зондом Лангмюра и моделирования плазмы в условиях планарного индукционного плазмохимического реактора. Эксперименты и расчеты проводились при постоянном давлении газа (10 мтор), вкладываемой мощности (800 Вт) и мощности смещения (150 Вт), при этом отношение CF4/C4F8 варьировалось изменением парциальных скоростей потока этих газов. Было найдено, что замещение CF4 на C4F8 в плазмообразующем газе CF4 + C4F8 + Ar приводит к снижению скорости генерации атомов фтора и плотности их потока на обрабатываемую поверхность из-за снижения концентрации в объеме плазмы. Предположено, что рост концентрации и плотности потока ненасыщенных радикалов CFx (x=1,2) в смесях с большим содержанием C4F8 при близких к постоянным значениях плотности потока энергии ионов (т.е. близкой к постоянной эффективности ионной бомбардировки) способствует снижению эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора за счет увеличения толщины фторуглеродной полимерной пленки на обрабатываемой поверхности.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон , К.Х.
6.
Подробнее
24.57
В 92
Selection of mode of anodic treatment of graphite in a spent nitric acid etching solution for producing thermally expanding graphite compounds [Текст] / И. Н. Фролов [et al.] // Известия высших учебных заведений. - Иваново, 2019. - №6. - Р. 77-83. - (Серия химия и химическая технология)
ББК 24.57
Рубрики: Электрохимия
Кл.слова (ненормированные):
углеродные материалы -- терморасширяющиеся соединения графита -- анодный синтез -- обработка графита -- травление -- соединения графита -- электролит -- электрохимия -- электрохимический синтез
Аннотация: Показана возможность использования отходов гальванических производств для синтеза терморасширяющихся соединений графита. В качестве примера был взят электролит на основе отработанного азотнокислого раствора травления медных деталей, содержащий в своем составе катионы различных металлов, тем самым решен экологический вопрос, связанный с проблемой утилизации растворов, содержащих в своем составе анионы азотной или серной кислот. Методом потенциодинамических кривых исследованы процессы, протекающие при синтезе терморасширяющихся соединений графита на платиновом и графитовом электродах в исследуемом электролите. Токи на потенциодинамических кривых до достижения потенциала выделения кислорода обуславливаются процессом окисления поверхностно функциональных групп с последующим интеркалированием графитовой матрицы. Выявлено, что потенциал выделения кислорода в электролите на основе отработанного азотнокислого раствора травления медных деталей несколько ниже, чем в 58% HNO3, из-за присутствия в составе катионов металлов. Свободные катионы металлов оттягивают на себя часть молекул воды, образуя гидратные оболочки, при этом катионы меди образуют комплексы, где молекулы H2O является лигандами, что затрудняет выделение кислорода. При электрохимическом синтезе терморасширяющихся соединений графита были применены потенциостатический и гальваностатический режимы. Выбран интервал потенциалов 1,8 - 2,2 В для проведения синтеза в потенциостатическом режиме. Даны рекомендации по применению гальваностатического режима с током анодной обработки 60 - 140 мА (на 1 г графита) для синтеза терморасширяющихся соединений графита в промышленных объемах. Полученный таким образом терморасширенный графит характеризуется насыпной плотностью менее 2 г/дм3.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Frolov, I.N.
Zabudkov, S.L.
Yakovlev, A.V.
Lopukhova, M.I.
В 92
Selection of mode of anodic treatment of graphite in a spent nitric acid etching solution for producing thermally expanding graphite compounds [Текст] / И. Н. Фролов [et al.] // Известия высших учебных заведений. - Иваново, 2019. - №6. - Р. 77-83. - (Серия химия и химическая технология)
Рубрики: Электрохимия
Кл.слова (ненормированные):
углеродные материалы -- терморасширяющиеся соединения графита -- анодный синтез -- обработка графита -- травление -- соединения графита -- электролит -- электрохимия -- электрохимический синтез
Аннотация: Показана возможность использования отходов гальванических производств для синтеза терморасширяющихся соединений графита. В качестве примера был взят электролит на основе отработанного азотнокислого раствора травления медных деталей, содержащий в своем составе катионы различных металлов, тем самым решен экологический вопрос, связанный с проблемой утилизации растворов, содержащих в своем составе анионы азотной или серной кислот. Методом потенциодинамических кривых исследованы процессы, протекающие при синтезе терморасширяющихся соединений графита на платиновом и графитовом электродах в исследуемом электролите. Токи на потенциодинамических кривых до достижения потенциала выделения кислорода обуславливаются процессом окисления поверхностно функциональных групп с последующим интеркалированием графитовой матрицы. Выявлено, что потенциал выделения кислорода в электролите на основе отработанного азотнокислого раствора травления медных деталей несколько ниже, чем в 58% HNO3, из-за присутствия в составе катионов металлов. Свободные катионы металлов оттягивают на себя часть молекул воды, образуя гидратные оболочки, при этом катионы меди образуют комплексы, где молекулы H2O является лигандами, что затрудняет выделение кислорода. При электрохимическом синтезе терморасширяющихся соединений графита были применены потенциостатический и гальваностатический режимы. Выбран интервал потенциалов 1,8 - 2,2 В для проведения синтеза в потенциостатическом режиме. Даны рекомендации по применению гальваностатического режима с током анодной обработки 60 - 140 мА (на 1 г графита) для синтеза терморасширяющихся соединений графита в промышленных объемах. Полученный таким образом терморасширенный графит характеризуется насыпной плотностью менее 2 г/дм3.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Frolov, I.N.
Zabudkov, S.L.
Yakovlev, A.V.
Lopukhova, M.I.
7.
Подробнее
24
Е 92
Ефремов, А. М.
Параметры и состав плазмы CF4 + O2 + Ar И CHF3 + O2 +Ar в процессах реактивно-ионного травления [Текст] / А. М. Ефремов // Известия высших учебных заведений серия Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62 (12). - С. 108-118
ББК 24
Рубрики: Химические науки
Кл.слова (ненормированные):
реактивно-ионное травление -- плазма -- ионизациядиссоциация -- полимеризация -- кинетика -- механизм
Аннотация: Проведен сравнительный анализ плазменных систем CF4+O2+Ar и CHF3+O2+Ar в условиях, характерных для процессов реактивно-ионного травления кремния и его соединений. Данные по внутренним параметрам плазмы, кинетике плазмохимических процессов и стационарному составу газовой фазы были получены при анализе описания диагностики плазмы зондами Лангмюра и 0-мерной (глобальной) модели плазмы. Как описано в литературе, условия эксперимента и моделирования соответствовали постоянным значениям общего давления плазмообразующего газа, вкладываемой мощности и мощности смещения. В результате выполнения работы: 1) установлены механизмы влияния кислорода на стационарные концентрации активных частиц через кинетику процессов при электронном ударе и реакции атомно-молекулярного взаимодействия; 2) выявлены особенности кинетики атомов фтора и фторуглеродных радикалов, формирующих химическую активность и полимеризационную нагрузку плазмы на контактирующие с ней поверхности и 3) проведен модельный анализ кинетики гетерогенных процессов (травление, полимеризация, деструкция полимерной пленки), определяющих режим травления и его выходные характеристики. Установлено, что замещение аргона на кислород в обеих смесях: 1) приводит к монотонному росту концентрации атомов фтора; 2) сопровождается снижением полимеризационной нагрузки газовой фазы на контактирующие с ней поверхности и 3) вызывает резкое (до двух порядков величины при ~ 20% О2) уменьшение толщины фторуглеродной полимерной пленки при сохранении более высоких значений для системы CHF3+O2+Ar.
Держатели документа:
ЗКГУ
Е 92
Ефремов, А. М.
Параметры и состав плазмы CF4 + O2 + Ar И CHF3 + O2 +Ar в процессах реактивно-ионного травления [Текст] / А. М. Ефремов // Известия высших учебных заведений серия Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62 (12). - С. 108-118
Рубрики: Химические науки
Кл.слова (ненормированные):
реактивно-ионное травление -- плазма -- ионизациядиссоциация -- полимеризация -- кинетика -- механизм
Аннотация: Проведен сравнительный анализ плазменных систем CF4+O2+Ar и CHF3+O2+Ar в условиях, характерных для процессов реактивно-ионного травления кремния и его соединений. Данные по внутренним параметрам плазмы, кинетике плазмохимических процессов и стационарному составу газовой фазы были получены при анализе описания диагностики плазмы зондами Лангмюра и 0-мерной (глобальной) модели плазмы. Как описано в литературе, условия эксперимента и моделирования соответствовали постоянным значениям общего давления плазмообразующего газа, вкладываемой мощности и мощности смещения. В результате выполнения работы: 1) установлены механизмы влияния кислорода на стационарные концентрации активных частиц через кинетику процессов при электронном ударе и реакции атомно-молекулярного взаимодействия; 2) выявлены особенности кинетики атомов фтора и фторуглеродных радикалов, формирующих химическую активность и полимеризационную нагрузку плазмы на контактирующие с ней поверхности и 3) проведен модельный анализ кинетики гетерогенных процессов (травление, полимеризация, деструкция полимерной пленки), определяющих режим травления и его выходные характеристики. Установлено, что замещение аргона на кислород в обеих смесях: 1) приводит к монотонному росту концентрации атомов фтора; 2) сопровождается снижением полимеризационной нагрузки газовой фазы на контактирующие с ней поверхности и 3) вызывает резкое (до двух порядков величины при ~ 20% О2) уменьшение толщины фторуглеродной полимерной пленки при сохранении более высоких значений для системы CHF3+O2+Ar.
Держатели документа:
ЗКГУ
8.
Подробнее
24
Е 90
Ефремов, А. М.
Параметры газовой фазы и режимы реактивно -ионного травления Si И Sio2 в бинарных смесях Ar+CF4/C4F8. [Текст] / А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, К. А. Медников, К. Н. Kwon // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.6. - С. 25-34
ББК 24
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
Si -- SiO2 -- травление -- полимеризация -- поток атомов фтора -- поток энергии ионов -- эффективная вероятность взаимодействия
Аннотация: Проведено сравнительное исследование электрофизических параметров плазмы, стационарного состава газовой фазы и закономерностей реактивно-ионного травления Si и SiO2 в плазме бинарных смесей CF4 + Ar и C4F8 + Ar в условиях индукционного ВЧ 13,56 МГц разряда. Фиксированными параметрами процесса являлись давление плазмообразующего газа (6 мтор) и уровни мощности, подводимой от источников возбуждения плазмы (700 Вт) и смещения (200 Вт).
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Бетелин, В.Б.
Медников, К.А.
Kwon, К.Н.
Е 90
Ефремов, А. М.
Параметры газовой фазы и режимы реактивно -ионного травления Si И Sio2 в бинарных смесях Ar+CF4/C4F8. [Текст] / А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, К. А. Медников, К. Н. Kwon // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.6. - С. 25-34
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
Si -- SiO2 -- травление -- полимеризация -- поток атомов фтора -- поток энергии ионов -- эффективная вероятность взаимодействия
Аннотация: Проведено сравнительное исследование электрофизических параметров плазмы, стационарного состава газовой фазы и закономерностей реактивно-ионного травления Si и SiO2 в плазме бинарных смесей CF4 + Ar и C4F8 + Ar в условиях индукционного ВЧ 13,56 МГц разряда. Фиксированными параметрами процесса являлись давление плазмообразующего газа (6 мтор) и уровни мощности, подводимой от источников возбуждения плазмы (700 Вт) и смещения (200 Вт).
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Бетелин, В.Б.
Медников, К.А.
Kwon, К.Н.
9.
Подробнее
24
Е 92
Ефремов, А. М.
Параметры плазмы и концентрации активных частиц в смесях фторуглеродных газов с аргоном и кислородом. [Текст] / А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, К. А. Медников, К. Н. Kwon // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.7. - С. 46-53
ББК 24
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
фторуглеродные газы -- плазма -- параметры -- активные частицы -- ионизация -- диссоциация -- травление -- полимеризация
Аннотация: Проведено сравнительное исследование электрофизических параметров плазмы и стационарного состава газовой фазы в плазме индукционного ВЧ 13б56 МГц разряда в смесях CF4 + O2 + Ar, CHF3 + O2 + Ar и C4F8 + O2 + Ar. В качестве постоянных внешних параметров выступали доля фторуглеродного компонента (50%), общее давление газа (6 мтор), вкладываемая мощность (700 Вт) и мощность смещения (200 Вт). Схема исследования включала диагностику плазмы зондами Лангмюра и 0-мерное (глобальное) моделирование кинетики плазмохимических процессов. Найдено, что полимеризационная способность бескислородных (50% Ar) и кислородсодержащих (50% O2) смесей согласуется с отношением z/x в исходной молекуле CxHyFz. Замещение аргона на кислород приводит к однотипным изменениям параметров электронной и ионной компонент плазмы (температуры электронов, концентраций заряженных частиц и энергии ионной бомбардировки), всегда снижает концентрации полимеробразующих радикалов и толщину полимерной пленки, но оказывает различное влияние на кинетику атомов фтора. Увеличение доли кислорода в смесях 50% CF4 + O2 + Ar и 50% CHF3 + O2 + Ar приводит к монотонному росту концентрации атомов фтора. Механизмы этих явлений связаны с увеличением скорости генерации атомов и снижением частоты их гибели, соответственно. Добавление кислорода в системе 50% C4F8 + O2 + Ar снижает скорость генерации атомов фтора, но не приводит к заметным изменениям частот их гибели. Это соответствует монотонному снижению концентрации атомов фтора при увеличении содержания кислорода в смеси. В результате, стационарная концентрация атомов фтора в условиях 50% O2 увеличивается в ряду C4F8 - CHF3 - CF4.
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Бетелин, В.Б.
Медников, К.А.
Kwon, К.Н.
Е 92
Ефремов, А. М.
Параметры плазмы и концентрации активных частиц в смесях фторуглеродных газов с аргоном и кислородом. [Текст] / А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, К. А. Медников, К. Н. Kwon // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.7. - С. 46-53
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
фторуглеродные газы -- плазма -- параметры -- активные частицы -- ионизация -- диссоциация -- травление -- полимеризация
Аннотация: Проведено сравнительное исследование электрофизических параметров плазмы и стационарного состава газовой фазы в плазме индукционного ВЧ 13б56 МГц разряда в смесях CF4 + O2 + Ar, CHF3 + O2 + Ar и C4F8 + O2 + Ar. В качестве постоянных внешних параметров выступали доля фторуглеродного компонента (50%), общее давление газа (6 мтор), вкладываемая мощность (700 Вт) и мощность смещения (200 Вт). Схема исследования включала диагностику плазмы зондами Лангмюра и 0-мерное (глобальное) моделирование кинетики плазмохимических процессов. Найдено, что полимеризационная способность бескислородных (50% Ar) и кислородсодержащих (50% O2) смесей согласуется с отношением z/x в исходной молекуле CxHyFz. Замещение аргона на кислород приводит к однотипным изменениям параметров электронной и ионной компонент плазмы (температуры электронов, концентраций заряженных частиц и энергии ионной бомбардировки), всегда снижает концентрации полимеробразующих радикалов и толщину полимерной пленки, но оказывает различное влияние на кинетику атомов фтора. Увеличение доли кислорода в смесях 50% CF4 + O2 + Ar и 50% CHF3 + O2 + Ar приводит к монотонному росту концентрации атомов фтора. Механизмы этих явлений связаны с увеличением скорости генерации атомов и снижением частоты их гибели, соответственно. Добавление кислорода в системе 50% C4F8 + O2 + Ar снижает скорость генерации атомов фтора, но не приводит к заметным изменениям частот их гибели. Это соответствует монотонному снижению концентрации атомов фтора при увеличении содержания кислорода в смеси. В результате, стационарная концентрация атомов фтора в условиях 50% O2 увеличивается в ряду C4F8 - CHF3 - CF4.
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Бетелин, В.Б.
Медников, К.А.
Kwon, К.Н.
Page 1, Results: 9