База данных: Статьи
Страница 4, Результатов: 34
Отмеченные записи: 0
31.
Подробнее
24
Е 90
Ефремов, А. М.
Параметры газовой фазы и режимы реактивно -ионного травления Si И Sio2 в бинарных смесях Ar+CF4/C4F8. [Текст] / А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, К. А. Медников, К. Н. Kwon // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.6. - С. 25-34
ББК 24
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
Si -- SiO2 -- травление -- полимеризация -- поток атомов фтора -- поток энергии ионов -- эффективная вероятность взаимодействия
Аннотация: Проведено сравнительное исследование электрофизических параметров плазмы, стационарного состава газовой фазы и закономерностей реактивно-ионного травления Si и SiO2 в плазме бинарных смесей CF4 + Ar и C4F8 + Ar в условиях индукционного ВЧ 13,56 МГц разряда. Фиксированными параметрами процесса являлись давление плазмообразующего газа (6 мтор) и уровни мощности, подводимой от источников возбуждения плазмы (700 Вт) и смещения (200 Вт).
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Бетелин, В.Б.
Медников, К.А.
Kwon, К.Н.
Е 90
Ефремов, А. М.
Параметры газовой фазы и режимы реактивно -ионного травления Si И Sio2 в бинарных смесях Ar+CF4/C4F8. [Текст] / А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, К. А. Медников, К. Н. Kwon // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.6. - С. 25-34
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
Si -- SiO2 -- травление -- полимеризация -- поток атомов фтора -- поток энергии ионов -- эффективная вероятность взаимодействия
Аннотация: Проведено сравнительное исследование электрофизических параметров плазмы, стационарного состава газовой фазы и закономерностей реактивно-ионного травления Si и SiO2 в плазме бинарных смесей CF4 + Ar и C4F8 + Ar в условиях индукционного ВЧ 13,56 МГц разряда. Фиксированными параметрами процесса являлись давление плазмообразующего газа (6 мтор) и уровни мощности, подводимой от источников возбуждения плазмы (700 Вт) и смещения (200 Вт).
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Бетелин, В.Б.
Медников, К.А.
Kwon, К.Н.
32.
Подробнее
24
Е 92
Ефремов, А. М.
Параметры плазмы и концентрации активных частиц в смесях фторуглеродных газов с аргоном и кислородом. [Текст] / А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, К. А. Медников, К. Н. Kwon // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.7. - С. 46-53
ББК 24
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
фторуглеродные газы -- плазма -- параметры -- активные частицы -- ионизация -- диссоциация -- травление -- полимеризация
Аннотация: Проведено сравнительное исследование электрофизических параметров плазмы и стационарного состава газовой фазы в плазме индукционного ВЧ 13б56 МГц разряда в смесях CF4 + O2 + Ar, CHF3 + O2 + Ar и C4F8 + O2 + Ar. В качестве постоянных внешних параметров выступали доля фторуглеродного компонента (50%), общее давление газа (6 мтор), вкладываемая мощность (700 Вт) и мощность смещения (200 Вт). Схема исследования включала диагностику плазмы зондами Лангмюра и 0-мерное (глобальное) моделирование кинетики плазмохимических процессов. Найдено, что полимеризационная способность бескислородных (50% Ar) и кислородсодержащих (50% O2) смесей согласуется с отношением z/x в исходной молекуле CxHyFz. Замещение аргона на кислород приводит к однотипным изменениям параметров электронной и ионной компонент плазмы (температуры электронов, концентраций заряженных частиц и энергии ионной бомбардировки), всегда снижает концентрации полимеробразующих радикалов и толщину полимерной пленки, но оказывает различное влияние на кинетику атомов фтора. Увеличение доли кислорода в смесях 50% CF4 + O2 + Ar и 50% CHF3 + O2 + Ar приводит к монотонному росту концентрации атомов фтора. Механизмы этих явлений связаны с увеличением скорости генерации атомов и снижением частоты их гибели, соответственно. Добавление кислорода в системе 50% C4F8 + O2 + Ar снижает скорость генерации атомов фтора, но не приводит к заметным изменениям частот их гибели. Это соответствует монотонному снижению концентрации атомов фтора при увеличении содержания кислорода в смеси. В результате, стационарная концентрация атомов фтора в условиях 50% O2 увеличивается в ряду C4F8 - CHF3 - CF4.
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Бетелин, В.Б.
Медников, К.А.
Kwon, К.Н.
Е 92
Ефремов, А. М.
Параметры плазмы и концентрации активных частиц в смесях фторуглеродных газов с аргоном и кислородом. [Текст] / А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, К. А. Медников, К. Н. Kwon // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.7. - С. 46-53
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
фторуглеродные газы -- плазма -- параметры -- активные частицы -- ионизация -- диссоциация -- травление -- полимеризация
Аннотация: Проведено сравнительное исследование электрофизических параметров плазмы и стационарного состава газовой фазы в плазме индукционного ВЧ 13б56 МГц разряда в смесях CF4 + O2 + Ar, CHF3 + O2 + Ar и C4F8 + O2 + Ar. В качестве постоянных внешних параметров выступали доля фторуглеродного компонента (50%), общее давление газа (6 мтор), вкладываемая мощность (700 Вт) и мощность смещения (200 Вт). Схема исследования включала диагностику плазмы зондами Лангмюра и 0-мерное (глобальное) моделирование кинетики плазмохимических процессов. Найдено, что полимеризационная способность бескислородных (50% Ar) и кислородсодержащих (50% O2) смесей согласуется с отношением z/x в исходной молекуле CxHyFz. Замещение аргона на кислород приводит к однотипным изменениям параметров электронной и ионной компонент плазмы (температуры электронов, концентраций заряженных частиц и энергии ионной бомбардировки), всегда снижает концентрации полимеробразующих радикалов и толщину полимерной пленки, но оказывает различное влияние на кинетику атомов фтора. Увеличение доли кислорода в смесях 50% CF4 + O2 + Ar и 50% CHF3 + O2 + Ar приводит к монотонному росту концентрации атомов фтора. Механизмы этих явлений связаны с увеличением скорости генерации атомов и снижением частоты их гибели, соответственно. Добавление кислорода в системе 50% C4F8 + O2 + Ar снижает скорость генерации атомов фтора, но не приводит к заметным изменениям частот их гибели. Это соответствует монотонному снижению концентрации атомов фтора при увеличении содержания кислорода в смеси. В результате, стационарная концентрация атомов фтора в условиях 50% O2 увеличивается в ряду C4F8 - CHF3 - CF4.
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Бетелин, В.Б.
Медников, К.А.
Kwon, К.Н.
33.
Подробнее
24
К 43
Киреев, С. Ю.
Электроосаждение индия из сульфатного электролита с галогенид-анионами. [Текст] / С. Ю. Киреев, С. Н. Киреев // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.10. - С. 65-71
ББК 24
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
индий -- гальванические покрытия -- импульсный электролиз -- поляризационные кривые -- галогенид-анионы
Аннотация: Проведено исследование влияния галогенид-анионов (фторидов, хлоридов, бромидов и иодидов) на процесс электрохимической кристаллизации индия из кислого сульфатно-галогенидного электролита с использованием стационарного и гальваностатического униполярного импульсного электролиза. Экспериментально установлено, что при содержании сульфата индия (III) 0,087 моль/л, серной кислоты 0,185 моль/л и блескообразующей добавки Лимеда БК-10А 2 мл/л введение фторидов до 1,00 моль/л не приводит к формированию покрытий индием на поверхности катода. Добавление хлоридов, бромидов и иодидов резко увеличивает скорость процесса формирования покрытий индием и увеличивает катодный выход индия по току. Определен диапазон концентраций хлорид-анионов (0,34···0,42 моль/л), при котором наблюдается электроосаждение покрытий наилучшего качества с высоким выходом по току. С увеличением порядкового номера галогена в Периодической системе Д.И. Менделеева возрастает степень его влияния на катодный процесс формирования покрытий индием. Галогенид-анионы в электролите образуют комплексные соединения индия, что доказывается смещением катодных потенциодинамических кривых в область более отрицательных значений потенциалов. Однако, при наличии в электролите бромидов и иодидов при пропускании электрического тока обнаружено образование малорастворимых моногалогенидов индия, нарушающих стабильность электролита и препятствующих его промышленному использованию. Определено влияние добавки Лимеда БК-10А на выход индия по току. Исследован процесс электроосаждения индия из сульфатно-хлоридного электролита с использованием гальваностатических импульсов прямоугольной формы, исследованы зависимости выхода по току индия от длительности импульсов, их скважности и амплитуды. Доказана возможность использования на практике комбинированных индиевых и инертных анодов. Изучены свойства индиевых покрытий из сульфатно-хлоридного электролита.
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Киреев, С.Н.
К 43
Киреев, С. Ю.
Электроосаждение индия из сульфатного электролита с галогенид-анионами. [Текст] / С. Ю. Киреев, С. Н. Киреев // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.10. - С. 65-71
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
индий -- гальванические покрытия -- импульсный электролиз -- поляризационные кривые -- галогенид-анионы
Аннотация: Проведено исследование влияния галогенид-анионов (фторидов, хлоридов, бромидов и иодидов) на процесс электрохимической кристаллизации индия из кислого сульфатно-галогенидного электролита с использованием стационарного и гальваностатического униполярного импульсного электролиза. Экспериментально установлено, что при содержании сульфата индия (III) 0,087 моль/л, серной кислоты 0,185 моль/л и блескообразующей добавки Лимеда БК-10А 2 мл/л введение фторидов до 1,00 моль/л не приводит к формированию покрытий индием на поверхности катода. Добавление хлоридов, бромидов и иодидов резко увеличивает скорость процесса формирования покрытий индием и увеличивает катодный выход индия по току. Определен диапазон концентраций хлорид-анионов (0,34···0,42 моль/л), при котором наблюдается электроосаждение покрытий наилучшего качества с высоким выходом по току. С увеличением порядкового номера галогена в Периодической системе Д.И. Менделеева возрастает степень его влияния на катодный процесс формирования покрытий индием. Галогенид-анионы в электролите образуют комплексные соединения индия, что доказывается смещением катодных потенциодинамических кривых в область более отрицательных значений потенциалов. Однако, при наличии в электролите бромидов и иодидов при пропускании электрического тока обнаружено образование малорастворимых моногалогенидов индия, нарушающих стабильность электролита и препятствующих его промышленному использованию. Определено влияние добавки Лимеда БК-10А на выход индия по току. Исследован процесс электроосаждения индия из сульфатно-хлоридного электролита с использованием гальваностатических импульсов прямоугольной формы, исследованы зависимости выхода по току индия от длительности импульсов, их скважности и амплитуды. Доказана возможность использования на практике комбинированных индиевых и инертных анодов. Изучены свойства индиевых покрытий из сульфатно-хлоридного электролита.
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Киреев, С.Н.
34.
Подробнее
24.1
Қ 19
Қанапия, А.
Химиялық элементтердің адам өміріндегі маңызы. [Текст] / А. Қанапия // Денсаулық. - 2023. - №2. - Б. 16-17
ББК 24.1
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
макро және микроэлементтер -- химиялық элементтер -- биологиялық рөлі -- кальций -- калий -- натрий -- магний -- фосфор -- темір -- йод -- кремний -- мырыш -- фтор -- хром -- мыс -- селен -- молибден -- магний
Аннотация: Адам организмі үшін макро-, микроэлементтердің маңызы зор. Бұл элементтердің адам организміне не үшін қажет екенін және олардың мөлшері қандай болу керектігі туралы.
Держатели документа:
БҚУ
Қ 19
Қанапия, А.
Химиялық элементтердің адам өміріндегі маңызы. [Текст] / А. Қанапия // Денсаулық. - 2023. - №2. - Б. 16-17
Рубрики: Химия
Кл.слова (ненормированные):
макро және микроэлементтер -- химиялық элементтер -- биологиялық рөлі -- кальций -- калий -- натрий -- магний -- фосфор -- темір -- йод -- кремний -- мырыш -- фтор -- хром -- мыс -- селен -- молибден -- магний
Аннотация: Адам организмі үшін макро-, микроэлементтердің маңызы зор. Бұл элементтердің адам организміне не үшін қажет екенін және олардың мөлшері қандай болу керектігі туралы.
Держатели документа:
БҚУ
Страница 4, Результатов: 34