QR-код документа
Е 92
Ефремов , А. М.
Параметры плазмы и кинетика активных частиц в смеси CF4+C4F8+Ar [Текст] / А. М. Ефремов , Д. Б. Мурин, К. Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(4-5). - С. 31-36
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
CF4 -- C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация
Аннотация: В данной работе обсуждаются взаимосвязи между начальным составом смеси CF4 + C4F8 + Ar, характеристиками газовой фазы и кинетикой гетерогенных процессов в условиях плазмы индукционного разряда пониженного давления. Целью работы являлось исследование зависимостей внутренних параметров плазмы (температура электронов, концентрация электронов, энергия ионной бомбардировки) и кинетики активных частиц от соотношения компонентов CF4/C4F8 в плазмообразующей смеси, а также выявление механизмов влияния указанных параметров на такие характеристики «сухого» травления, как скорость травления и селективность. Исследования проводились методами диагностики плазмы двойным зондом Лангмюра и моделирования плазмы в условиях планарного индукционного плазмохимического реактора. Эксперименты и расчеты проводились при постоянном давлении газа (10 мтор), вкладываемой мощности (800 Вт) и мощности смещения (150 Вт), при этом отношение CF4/C4F8 варьировалось изменением парциальных скоростей потока этих газов. Было найдено, что замещение CF4 на C4F8 в плазмообразующем газе CF4 + C4F8 + Ar приводит к снижению скорости генерации атомов фтора и плотности их потока на обрабатываемую поверхность из-за снижения концентрации в объеме плазмы. Предположено, что рост концентрации и плотности потока ненасыщенных радикалов CFx (x=1,2) в смесях с большим содержанием C4F8 при близких к постоянным значениях плотности потока энергии ионов (т.е. близкой к постоянной эффективности ионной бомбардировки) способствует снижению эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора за счет увеличения толщины фторуглеродной полимерной пленки на обрабатываемой поверхности.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон , К.Х.
Похожие издания по классификации