Параметры газовой фазы и режимы реактивно -ионного травления Si И Sio2 в бинарных смесях Ar+CF4/C4F8./Ефремов, А.М.

Параметры газовой фазы и режимы реактивно -ионного травления Si И Sio2 в бинарных смесях Ar+CF4/C4F8./Ефремов, А.М.

http://elib.wku.edu.kz/lib/document/STAT2/7279A8B2-B9B8-4E4C-A9D5-1C90021D9F68/

24
Е 90
Ефремов, А. М.
    Параметры газовой фазы и режимы реактивно -ионного травления Si И Sio2 в бинарных смесях Ar+CF4/C4F8. [Текст] / А. М. Ефремов, В. Б. Бетелин, К. А. Медников, К. Н. Kwon // Известия высших учебных заведений . - 2021. - Т.64. Вып.6. - С. 25-34
ББК 24

Рубрики: Химия

Кл.слова (ненормированные):
Si -- SiO2 -- травление -- полимеризация -- поток атомов фтора -- поток энергии ионов -- эффективная вероятность взаимодействия
Аннотация: Проведено сравнительное исследование электрофизических параметров плазмы, стационарного состава газовой фазы и закономерностей реактивно-ионного травления Si и SiO2 в плазме бинарных смесей CF4 + Ar и C4F8 + Ar в условиях индукционного ВЧ 13,56 МГц разряда. Фиксированными параметрами процесса являлись давление плазмообразующего газа (6 мтор) и уровни мощности, подводимой от источников возбуждения плазмы (700 Вт) и смещения (200 Вт).
Держатели документа:
ЗКУ
Доп.точки доступа:
Бетелин, В.Б.
Медников, К.А.
Kwon, К.Н.

QR-код документа