Электронный каталог


 

База данных: Статьи

Страница 1, Результатов: 1

Отмеченные записи: 0

24.5
Е 92

Ефремов, А.М.
    Параметры плазмы, концентрации активных частиц и кинетика травления в смеси C4F8+Ar [Текст] / А.М. Ефремов, Д.Б. Мурин, К.Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62(2). - С. 31-37
ББК 24.5

Рубрики: Физическая химия. Химическая физика

Кл.слова (ненормированные):
C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация -- химия -- параметры плазмы -- активные частицы
Аннотация: В данной работе представлены результаты комбинированных (экспериментальных и модельных) исследований характеристик газовой фазы и кинетики травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar. Эксперименты проводились при постоянном общем давлении смеси (p = 6 мтор), вкладываемой мощности (W = 900 Вт) и мощности смещения (Wdc = 200 Вт), при этом соотношение компонентов C4F8/Ar варьировалось в диапазоне 0–75% Ar. Данные по внутренним параметрам плазмы, кинетике плазмохимических процессов и стационарным концентрациям частиц в газовой фазе получали при совместном использовании диагностики плазмы зондами Лангмюра и 0-мерного моделирования плазмы. Механизмы травления идентифицировали через анализ корреляций между измеренными скоростями травления и расчетными значениями плотностей потоков активных частиц (атомов F, полимеробразующих радикалов CFx и положительных ионов). Было найдено, что в исследованном диапазоне условий процессы травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar 1) протекают в стационарной области; 2) имеют характерные черты ионно-стимулированной химической реакции в режиме травления, лимитируемом потоком нейтральных частиц; 3) не свободны от влияния толщины фторуглеродной полимерной пленки. Было показано, что влияние условий проведения процесса травления на величину эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора с Si и SiO2 адекватно характеризуется отношениями плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока атомов фтора и плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока энергии ионов.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон, К.Х.

Ефремов, А.М. Параметры плазмы, концентрации активных частиц и кинетика травления в смеси C4F8+Ar [Текст] / А.М. Ефремов, Д.Б. Мурин, К.Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. Т.62(2).- С.31-37

1.

Ефремов, А.М. Параметры плазмы, концентрации активных частиц и кинетика травления в смеси C4F8+Ar [Текст] / А.М. Ефремов, Д.Б. Мурин, К.Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. Т.62(2).- С.31-37


24.5
Е 92

Ефремов, А.М.
    Параметры плазмы, концентрации активных частиц и кинетика травления в смеси C4F8+Ar [Текст] / А.М. Ефремов, Д.Б. Мурин, К.Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62(2). - С. 31-37
ББК 24.5

Рубрики: Физическая химия. Химическая физика

Кл.слова (ненормированные):
C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация -- химия -- параметры плазмы -- активные частицы
Аннотация: В данной работе представлены результаты комбинированных (экспериментальных и модельных) исследований характеристик газовой фазы и кинетики травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar. Эксперименты проводились при постоянном общем давлении смеси (p = 6 мтор), вкладываемой мощности (W = 900 Вт) и мощности смещения (Wdc = 200 Вт), при этом соотношение компонентов C4F8/Ar варьировалось в диапазоне 0–75% Ar. Данные по внутренним параметрам плазмы, кинетике плазмохимических процессов и стационарным концентрациям частиц в газовой фазе получали при совместном использовании диагностики плазмы зондами Лангмюра и 0-мерного моделирования плазмы. Механизмы травления идентифицировали через анализ корреляций между измеренными скоростями травления и расчетными значениями плотностей потоков активных частиц (атомов F, полимеробразующих радикалов CFx и положительных ионов). Было найдено, что в исследованном диапазоне условий процессы травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar 1) протекают в стационарной области; 2) имеют характерные черты ионно-стимулированной химической реакции в режиме травления, лимитируемом потоком нейтральных частиц; 3) не свободны от влияния толщины фторуглеродной полимерной пленки. Было показано, что влияние условий проведения процесса травления на величину эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора с Si и SiO2 адекватно характеризуется отношениями плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока атомов фтора и плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока энергии ионов.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон, К.Х.

Страница 1, Результатов: 1

 

Все поступления за 
Или выберите интересующий месяц