База данных: Статьи
Страница 1, Результатов: 2
Отмеченные записи: 0
1.
Подробнее
24.5
Е 92
Ефремов, А.М.
Параметры плазмы, концентрации активных частиц и кинетика травления в смеси C4F8+Ar [Текст] / А.М. Ефремов, Д.Б. Мурин, К.Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62(2). - С. 31-37
ББК 24.5
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация -- химия -- параметры плазмы -- активные частицы
Аннотация: В данной работе представлены результаты комбинированных (экспериментальных и модельных) исследований характеристик газовой фазы и кинетики травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar. Эксперименты проводились при постоянном общем давлении смеси (p = 6 мтор), вкладываемой мощности (W = 900 Вт) и мощности смещения (Wdc = 200 Вт), при этом соотношение компонентов C4F8/Ar варьировалось в диапазоне 0–75% Ar. Данные по внутренним параметрам плазмы, кинетике плазмохимических процессов и стационарным концентрациям частиц в газовой фазе получали при совместном использовании диагностики плазмы зондами Лангмюра и 0-мерного моделирования плазмы. Механизмы травления идентифицировали через анализ корреляций между измеренными скоростями травления и расчетными значениями плотностей потоков активных частиц (атомов F, полимеробразующих радикалов CFx и положительных ионов). Было найдено, что в исследованном диапазоне условий процессы травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar 1) протекают в стационарной области; 2) имеют характерные черты ионно-стимулированной химической реакции в режиме травления, лимитируемом потоком нейтральных частиц; 3) не свободны от влияния толщины фторуглеродной полимерной пленки. Было показано, что влияние условий проведения процесса травления на величину эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора с Si и SiO2 адекватно характеризуется отношениями плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока атомов фтора и плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока энергии ионов.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон, К.Х.
Е 92
Ефремов, А.М.
Параметры плазмы, концентрации активных частиц и кинетика травления в смеси C4F8+Ar [Текст] / А.М. Ефремов, Д.Б. Мурин, К.Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2019. - Т.62(2). - С. 31-37
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация -- химия -- параметры плазмы -- активные частицы
Аннотация: В данной работе представлены результаты комбинированных (экспериментальных и модельных) исследований характеристик газовой фазы и кинетики травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar. Эксперименты проводились при постоянном общем давлении смеси (p = 6 мтор), вкладываемой мощности (W = 900 Вт) и мощности смещения (Wdc = 200 Вт), при этом соотношение компонентов C4F8/Ar варьировалось в диапазоне 0–75% Ar. Данные по внутренним параметрам плазмы, кинетике плазмохимических процессов и стационарным концентрациям частиц в газовой фазе получали при совместном использовании диагностики плазмы зондами Лангмюра и 0-мерного моделирования плазмы. Механизмы травления идентифицировали через анализ корреляций между измеренными скоростями травления и расчетными значениями плотностей потоков активных частиц (атомов F, полимеробразующих радикалов CFx и положительных ионов). Было найдено, что в исследованном диапазоне условий процессы травления Si и SiO2 в плазме смеси C4F8 + Ar 1) протекают в стационарной области; 2) имеют характерные черты ионно-стимулированной химической реакции в режиме травления, лимитируемом потоком нейтральных частиц; 3) не свободны от влияния толщины фторуглеродной полимерной пленки. Было показано, что влияние условий проведения процесса травления на величину эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора с Si и SiO2 адекватно характеризуется отношениями плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока атомов фтора и плотность потока полимеробразующих радикалов / плотность потока энергии ионов.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон, К.Х.
2.
Подробнее
24.5
Е 92
Ефремов , А. М.
Параметры плазмы и кинетика активных частиц в смеси CF4+C4F8+Ar [Текст] / А. М. Ефремов , Д. Б. Мурин, К. Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(4-5). - С. 31-36
ББК 24.5
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
CF4 -- C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация
Аннотация: В данной работе обсуждаются взаимосвязи между начальным составом смеси CF4 + C4F8 + Ar, характеристиками газовой фазы и кинетикой гетерогенных процессов в условиях плазмы индукционного разряда пониженного давления. Целью работы являлось исследование зависимостей внутренних параметров плазмы (температура электронов, концентрация электронов, энергия ионной бомбардировки) и кинетики активных частиц от соотношения компонентов CF4/C4F8 в плазмообразующей смеси, а также выявление механизмов влияния указанных параметров на такие характеристики «сухого» травления, как скорость травления и селективность. Исследования проводились методами диагностики плазмы двойным зондом Лангмюра и моделирования плазмы в условиях планарного индукционного плазмохимического реактора. Эксперименты и расчеты проводились при постоянном давлении газа (10 мтор), вкладываемой мощности (800 Вт) и мощности смещения (150 Вт), при этом отношение CF4/C4F8 варьировалось изменением парциальных скоростей потока этих газов. Было найдено, что замещение CF4 на C4F8 в плазмообразующем газе CF4 + C4F8 + Ar приводит к снижению скорости генерации атомов фтора и плотности их потока на обрабатываемую поверхность из-за снижения концентрации в объеме плазмы. Предположено, что рост концентрации и плотности потока ненасыщенных радикалов CFx (x=1,2) в смесях с большим содержанием C4F8 при близких к постоянным значениях плотности потока энергии ионов (т.е. близкой к постоянной эффективности ионной бомбардировки) способствует снижению эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора за счет увеличения толщины фторуглеродной полимерной пленки на обрабатываемой поверхности.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон , К.Х.
Е 92
Ефремов , А. М.
Параметры плазмы и кинетика активных частиц в смеси CF4+C4F8+Ar [Текст] / А. М. Ефремов , Д. Б. Мурин, К. Х. Квон // Известия высших учебных заведений. Серия: Химия и химическая технология. - 2018. - Т.61(4-5). - С. 31-36
Рубрики: Физическая химия. Химическая физика
Кл.слова (ненормированные):
CF4 -- C4F8 -- скорость реакции -- энергия ионов -- концентрация -- поток -- травление -- полимеризация
Аннотация: В данной работе обсуждаются взаимосвязи между начальным составом смеси CF4 + C4F8 + Ar, характеристиками газовой фазы и кинетикой гетерогенных процессов в условиях плазмы индукционного разряда пониженного давления. Целью работы являлось исследование зависимостей внутренних параметров плазмы (температура электронов, концентрация электронов, энергия ионной бомбардировки) и кинетики активных частиц от соотношения компонентов CF4/C4F8 в плазмообразующей смеси, а также выявление механизмов влияния указанных параметров на такие характеристики «сухого» травления, как скорость травления и селективность. Исследования проводились методами диагностики плазмы двойным зондом Лангмюра и моделирования плазмы в условиях планарного индукционного плазмохимического реактора. Эксперименты и расчеты проводились при постоянном давлении газа (10 мтор), вкладываемой мощности (800 Вт) и мощности смещения (150 Вт), при этом отношение CF4/C4F8 варьировалось изменением парциальных скоростей потока этих газов. Было найдено, что замещение CF4 на C4F8 в плазмообразующем газе CF4 + C4F8 + Ar приводит к снижению скорости генерации атомов фтора и плотности их потока на обрабатываемую поверхность из-за снижения концентрации в объеме плазмы. Предположено, что рост концентрации и плотности потока ненасыщенных радикалов CFx (x=1,2) в смесях с большим содержанием C4F8 при близких к постоянным значениях плотности потока энергии ионов (т.е. близкой к постоянной эффективности ионной бомбардировки) способствует снижению эффективной вероятности взаимодействия атомов фтора за счет увеличения толщины фторуглеродной полимерной пленки на обрабатываемой поверхности.
Держатели документа:
ЗКГУ
Доп.точки доступа:
Мурин, Д.Б.
Квон , К.Х.
Страница 1, Результатов: 2